1、南京国盛电子有限公司通过ISO14001:2004认证。2、南京国盛电子有限公司获得“2008年度江苏省科技进步三等奖”
硅外延(Epitaxy, 简称Epi)工艺是指在单晶衬底上生长一层跟衬底具有相同晶格排列的单晶材料,外延层可以是同质外延层(Si/Si),也可以是异质外延层(SiGe/Si 或SiC/Si等);同样......[详细]
小功率管用外延片、功率MOS器件用外延片、IGBT器件用外延片、检波管及整流管用外延片、电路片及其他掺As衬底的外延片、肖特基二极管用外延片 ......[详细]
公司拥有先进外延生产设备 " PE2061S, PE3061D......[详细]

南京国盛电子有限公司专业从事半导体Si外延材料研发、生产及销售。地处南京经济技术开发区,是江苏省、南京市高新技术企业。拥有国际水平的外延设备和及时的供货能力(产能13万片/月),硅外延产品从4英寸8英寸.

 

  2008年获得中国半导体设备和材料标准化技术委员会颁发的“全国有色金属技术标准优秀奖
  2008年获得南京市人民政府授予的“高成长科技创新型百优企业”称号
  2008年获得江苏省科学技术厅及相关政府机构颁发的“高新技术企业”证书
  2008年南京市工商行政管理局授予“国盛”商标为南京市著名商标
  2008年完成2项省市级技术攻关和技术创新基金项目
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